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簡要描述：沃特世waters Xevo TQD 氮氣發(fā)生器2010年Flairmo*實驗室空壓機問世，基于在氣體制造及純化技術(shù)上建立起來的強大技術(shù)團隊和專業(yè)知識背景，F(xiàn)lairmo 不斷開展對空氣分離技術(shù)的開發(fā)及創(chuàng)造性研究工作，現(xiàn)已成功發(fā)展成為現(xiàn)今世界上重要的氣體發(fā)生器制造商之一。公司總部設(shè)在丹麥奧爾堡。10多年來， Flairmo一直從事壓縮機和氮氣發(fā)生器的制造。
產(chǎn)品型號：丹麥進口Flairmo 廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2024-05-07訪 問 量：1076詳細介紹
沃特世waters Xevo TQD 氮氣發(fā)生器
2010年Flairmo*實驗室空壓機問世，基于在氣體制造及純化技術(shù)上建立起來的強大技術(shù)團隊和專業(yè)知識背景，F(xiàn)lairmo 不斷開展對空氣分離技術(shù)的開發(fā)及創(chuàng)造性研究工作，現(xiàn)已成功發(fā)展成為現(xiàn)今世界上重要的氣體發(fā)生器制造商之一。公司總部設(shè)在丹麥奧爾堡。10多年來Flairmo一直從事壓縮機和氮氣發(fā)生器的制造，產(chǎn)品滿足各類實驗室、科學儀器對高純氫氣、高純氮氣、零級空氣、大流量氮氣等氣體的需求，涉及醫(yī)療，實驗室，食品，工業(yè)等各個行業(yè)。
型號：N2G 40 – A200.6
氮氣純度99.5%，流量40L/min，內(nèi)置空壓機，壁掛式/柜式箱體，整套系統(tǒng)占地面積不超過0.4平方米，質(zhì)譜配套氮氣發(fā)生器。適配Agilent安捷倫，Thermo Fisher賽默飛，AB SCIEX，沃特世Waters ，布魯克 Bruker，島津Shimadzu，PerkinElmer珀金埃爾默等品牌液質(zhì)聯(lián)用儀LC-MS。
提供3年10000小時質(zhì)保服務(wù)。
所用技術(shù) PSA
流速 40 SLPM
出口壓力 0 到 7 barg / 0 到 100 psig
空壓機 內(nèi)置
操作環(huán)境溫度 5°C 到40°C
工作環(huán)境濕度 相對濕度≤ 70% , 不冷凝
高海拔 2000 米
尺寸 （長x寬x高 ）： 615 x 630 x 860 mm
重量：110 kg
沃特世waters Xevo TQD 氮氣發(fā)生器
丹麥Flairmo*氮氣發(fā)生器專門為LCMS設(shè)計，采用*進的PSA技術(shù)，將空氣壓縮機里的氣體導(dǎo)入碳分子篩，氧氣、二氧化碳、水份及其他雜質(zhì)在通過碳分子篩時被除去，只允許氮氣通過碳分子篩并進入蓄氣池，在蓄氣池里進行壓力和流速的調(diào)節(jié)后就可以與用氣設(shè)備相連。
Flairmo N2G40-A200.6系列氮氣發(fā)生器高配機型內(nèi)置氧濃度分析儀，可以實現(xiàn)純度在線顯示，報警等功能，并且可以用手機APP或者電腦程序?qū)嵤┻h程監(jiān)測，機器的內(nèi)部控制結(jié)合氧濃度分析儀實現(xiàn)純度的真正可選可控，只會產(chǎn)出我們設(shè)定好需要的氮氣。
Flairmo N2G40-A200.6系列氮氣發(fā)生器配備了LCD 觸摸顯示屏可以方便查看機器狀態(tài)和記錄，如開機次數(shù)，運行時間，純度設(shè)置，純度報警，維修服務(wù)提醒等等。
與采用中空纖維膜技術(shù)對比
1、碳分子篩技術(shù)可實現(xiàn)自我凈化，不僅有效去除雜質(zhì)和碳氫化合物，而且得到的氮氣純度更高，這就是為什么所有廠家氣相用氮氣發(fā)生器（因為純度要求達到99.999%）全部采用碳分子篩技術(shù)而不是膜分離技術(shù)。
2、膜分離技術(shù)，根據(jù)不同氣體在通過膜時的滲透屬性不同，將空氣中的氮氣分離出來，但通過膜的壓縮空氣即使之前經(jīng)過凈化也會存在一定的雜質(zhì)和碳氫化合物，這些雜質(zhì)會附著在膜上而不會*排除，在空氣濕度大的地方，膜的分離效率會不斷降低，純度和流速會逐漸降低.
3、碳分子篩技術(shù)更適宜于潮濕的空氣環(huán)境和高溫天氣；
耐用、穩(wěn)定而可靠的Xevo TQD
沃特世整套UPLC/MS/MS常規(guī)定量應(yīng)用解決方案可確保系統(tǒng)達到最高的靈敏度、選擇性和穩(wěn)定性而且操作簡便。
借助的穩(wěn)定性使儀器系統(tǒng)的正常運行時間達到
加快靈敏穩(wěn)定的方法的開發(fā)速率
降低復(fù)雜度，提高易用性并確保分析結(jié)果始終正確
最大限度增加處理量，同時又不會降低數(shù)據(jù)質(zhì)量
既擁有當今最寬泛的電離能力，又著眼于未來的創(chuàng)新檢驗
借助穩(wěn)定性使儀器系統(tǒng)的正常運行時間達到
快速不間斷的分析需要一臺能始終給出準確結(jié)果的既可靠又穩(wěn)定的儀器系統(tǒng)。
加快靈敏穩(wěn)定的方法的開發(fā)速率
您不會再受到與基質(zhì)效應(yīng)相關(guān)的復(fù)雜因素和不確定性的干擾。得益于RADAR，方法開發(fā)成為一種智能化過程，它將定量數(shù)據(jù)與定性數(shù)據(jù)相結(jié)合以直觀顯示完整樣品，從而在樣品制備和色譜方法開發(fā)過程中實現(xiàn)了數(shù)據(jù)導(dǎo)向性決策。
在RADAR模式下，您既可監(jiān)測樣本中的基質(zhì)干擾物、代謝物、雜質(zhì)和降解產(chǎn)物，同時又可準確對目標化合物定量。
確保結(jié)果始終正確
準備IntelliStart和Quanpedia可快速對系統(tǒng)進行自動設(shè)置和檢查，同時自動生成所有的MRM通道，使得系統(tǒng)性能
分析QCMonitor將主動監(jiān)控實時數(shù)據(jù)，當超出用戶的任何設(shè)置限定時采取措施。
解讀TargetLynx可自動進行定量分析和結(jié)果報告，并能自動標注十分清晰的標記以降低出錯幾率。
決定TrendPlot使您可直觀查看多天、多周或多月內(nèi)的結(jié)果；這為分析數(shù)據(jù)趨勢和長期系統(tǒng)性能提供了寶貴信息。
最大限度增加處理量，同時又不會降低數(shù)據(jù)
對UPLC的典型窄峰（峰寬2-3秒）進行準確定量需要較高的采集速度以確保數(shù)據(jù)質(zhì)量。不論您在同一方法中只分析一種化合物，還是分析數(shù)百種化合物，T-Wave碰撞室均可確保UPLC在色譜分析速度和分離度方面的優(yōu)勢得到充分發(fā)揮。
Xevo系列的通用離子源結(jié)構(gòu)擁有*泛的電離技術(shù)范圍以及剛剛面世的電離技術(shù)創(chuàng)新成果。您在試驗選項方面將擁有無限選擇。當您需要某些選項而又時間緊迫時，可在離子源之間進行快速轉(zhuǎn)換，幾分鐘即可使用。耐用、穩(wěn)定而可靠的Xevo TQD
沃特世整套UPLC/MS/MS常規(guī)定量應(yīng)用解決方案可確保系統(tǒng)達到最高的靈敏度、選擇性和穩(wěn)定性而且操作簡便。
借助穩(wěn)定性使儀器系統(tǒng)的正常運行時間達到
加快靈敏穩(wěn)定的方法的開發(fā)速率
降低復(fù)雜度，提高易用性并確保分析結(jié)果始終正確
最大限度增加處理量，同時又不會降低數(shù)據(jù)質(zhì)量
既擁有當今最寬泛的電離能力，又著眼于未來的創(chuàng)新檢驗
借助的穩(wěn)定性使儀器系統(tǒng)的正常運行時間達到
快速不間斷的分析需要一臺能始終給出準確結(jié)果的既可靠又穩(wěn)定的儀器系統(tǒng)。
加快靈敏穩(wěn)定的方法的開發(fā)速率
您不會再受到與基質(zhì)效應(yīng)相關(guān)的復(fù)雜因素和不確定性的干擾。得益于RADAR，方法開發(fā)成為一種智能化過程，它將定量數(shù)據(jù)與定性數(shù)據(jù)相結(jié)合以直觀顯示完整樣品，從而在樣品制備和色譜方法開發(fā)過程中實現(xiàn)了數(shù)據(jù)導(dǎo)向性決策。
在RADAR模式下，您既可監(jiān)測樣本中的基質(zhì)干擾物、代謝物、雜質(zhì)和降解產(chǎn)物，同時又可準確對目標化合物定量。
確保結(jié)果始終正確
準備IntelliStart和Quanpedia可快速對系統(tǒng)進行自動設(shè)置和檢查，同時自動生成所有的MRM通道，使得系統(tǒng)性能
分析QCMonitor將主動監(jiān)控實時數(shù)據(jù)，當超出用戶的任何設(shè)置限定時采取措施。
解讀TargetLynx可自動進行定量分析和結(jié)果報告，并能自動標注十分清晰的標記以降低出錯幾率。
決定TrendPlot使您可直觀查看多天、多周或多月內(nèi)的結(jié)果；這為分析數(shù)據(jù)趨勢和長期系統(tǒng)性能提供了寶貴信息。
最大限度增加處理量，同時又不會降低數(shù)據(jù)
對UPLC的典型窄峰（峰寬2-3秒）進行準確定量需要較高的采集速度以確保數(shù)據(jù)質(zhì)量。不論您在同一方法中只分析一種化合物，還是分析數(shù)百種化合物，T-Wave碰撞室均可確保UPLC在色譜分析速度和分離度方面的優(yōu)勢得到充分發(fā)揮。
Xevo系列的通用離子源結(jié)構(gòu)擁有*泛的電離技術(shù)范圍以及剛剛面世的電離技術(shù)創(chuàng)新成果。您在試驗選項方面將擁有無限選擇。當您需要某些選項而又時間緊迫時，可在離子源之間進行快速轉(zhuǎn)換，幾分鐘即可使用。
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